寸法精度の高いフォトマスクを業界随一のコストパフォーマンスで短納期提供

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事業紹介
フォトマスク事業

フォトマスク事業Photomask

最高品質のフォトマスクを
「早く」「安く」「簡単に」提供するマスクショップ。

フォトリソグラフィプロセスの原版として用いられるフォトマスクには、高いパターン寸法精度はもちろん、わずかなパターン欠陥や極小の異物付着さえも許されない高度な品質管理が要求されます。
当社では厳しく管理されたクリーンルーム、ハイスペック描画装置、オートメーション化された現像装置や洗浄装置、さらに多数の検査、測定装置など、あらゆるリソースを駆使してこれらの品質要求にお応えしています。
もちろん納期、コスト対応にも注力しており、最短中一日の短納期と業界随一のコストパフォマンスの両立を実現しました。
さらにお客様のご負担を軽減するため、熟練のCAD・CAMオペレーターによるデータ作成やデータ補正の補助などといった、設計サポートサービスにも取り組んでおります。
最高の品質のフォトマスクを「早く」「安く」「簡単に」お客様にお届けできるよう、今後より一層努力してまいります。

東洋精密工業のフォトマスク

最小1μmからの微細パターンを高精度に描画可能です。
最短中1日からの短納期対応が可能です。
パターンレイアウト、配線補正など、ご指定のルールに基いた設計サポートに対応しています。

加工概要

フォトリソグラフィの原版として使用されるフォトマスクですが、実はそれ自体を作る際にもフォトリソグラフィ技術が使用されています。描画装置により極細のレーザー光線を照射し、その後現像、エッチングという工程を経る事で、ガラスや合成石英の上に微細かつ高精度な遮光パターンを形成します。フォトマスクの欠陥は、そのまま製品の欠陥に繋がる為、高度に管理されたクリーン環境下で生産し、信頼性の確保された装置による綿密な検査を経て高品質のフォトマスクを出荷しております。半導体素子やパッケージ、ディスプレイ、MEMSセンサなどフォトリソグラフィプロセスを用いて生産させる製品に広く使用され、またフォトマスク自体を校正用の原器やスケールとして直接用いる事もあります。

プロセスイメージ図

1.材料

フォトマスクの材料でブランクスとも呼ばれます。ソーダライムガラスまたは合成石英の基板上に遮光膜となるクロム薄膜を成膜し、レジストを塗布したものが一般的です。
2. 描画

描画装置により描画します。
レーザーの当たった部分のレジストが感光します。
3. 現像

感光した部分のレジストを現像処理により除去します。
4. エッチング

レジストが除去された部分のクロム膜をエッチングにより除去します。
5. 剥離

不要になったレジストを剥離します。ガラス基板上にパターニングされたクロム遮光膜のみが残った状態になります。
6. 洗浄、検査、出荷

洗浄後、各種検査装置による検査を経て出荷されます。必要に応じてペリクルの貼り付けを行うこともあります。

標準仕様の一例

製品種別	マスターマスク		コピーマスク
製品種別	小型マスク	大型マスク	コピーマスク
外形サイズ	〜9inch	10inch〜700×800mm	〜508×609.4mm
最小線幅	1.0μm〜	4.0μm〜	3.0μm〜
線幅精度	±0.1μm〜	±0.5μm〜	±1.0μm〜
ピッチ精度	±1.0μm〜	±1.0μm〜	±2.0μm〜
基板材料	ソーダライムガラス（SL）/合成石英（Qz）