製造事例

images

  • images
  • images

直接描画による微細パターニング

回路基板事業部

回路基板事業とフォトマスク事業の社内コラボです。

通常のパターニングの場合、フォトマスクを使用してパターニングを行いますが、今回はフォトマスクを描画する為の描画装置で直接、フォトレジストを塗布した基板に描画し感光させてパターニングしました。

結果、通常のパターニングでは作成不可能な「L/S=5μm」レベルの微細パターンを作成することができました。

製品仕様

  • L/S:5μm狙い→L=4.7μm/S=5.1μm
  • 膜仕様:下地から Cu2μm/Ni0.5μm/Au1μm(総厚3.5μm)

ご相談・お問い合わせ

お電話からのご相談・お問い合わせ

0744-23-9160

受付時間: 平日9時〜17時(土・日・祝日を除く)

Webからのご相談・お問い合わせ

お問い合わせフォーム

ページの先頭へ移動