製造事例

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【開発中】AuSn膜

回路基板事業部

部品実装の接合層として使用されるAuSn膜を形成。フォトリソ加工との組み合わせにより、プリフォームでは対応が難しい小型の基板や微小な配線パターン上へのAuSn膜の形成が可能です。

製品仕様

  • 比率:70~80Auwt%(接合面の膜仕様により調整)
  • 膜厚:〜20μm
  • 寸法:□50μm〜
  • 保護:無し・Au膜(選択)
  • 溶融条件
  • 温度:310℃
  • 時間:20s
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