フォトマスク事業部
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フォトマスクとは、ガラス基板やフィルム上に光を通さない膜でパターンを形成し、フォトリソグラフィ（光化学的転写法）によって被転写対象に微細なパターンを転写するための原版です。
フラットパネルディスプレイや各種電子部品、半導体を中心とするマイクロデバイス等、様々な分野でフォトリソグラフィが活用されており、フォトマスクへの需要はますます高まっております。
当社では二十数年培ってきた供給実績を基に、フォトリソグラフィのコアとなるフォトマスク製造の技術革新に努めてまいりました。
今後も最新の製造設備、検査機器体制を備え、皆様に高精度、高品質なフォトマスクをご提供させて頂きます。
- マスク種類
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- クロムマスク（ソーダライムガラス、石英ガラス）
- レチクル
- エマルジョンマスク（ソーダライムガラス、フィルム）
- 用途
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- 半導体用フォトマスク、レチクル
- フラットパネルディスプレイ用フォトマスク
- プリント基板用フォトマスク
- 各種研究開発用フォトマスク
