フォトマスク事業部

当社では、お客様の様々なニーズにお答えする為にCAD〜描画〜検査に至るまで最新の設備にて対応致します。

製品仕様詳細

フォトマスク製品スペック

クロム直画マスク、レチクル
特徴
  • 遮光性能が高く、パターンエッジがシャープ
  • クロム膜やレジストの厚みが薄く、微細なパターン形成が可能
  • 長時間の使用が可能
  • 機材の伸縮が少なく寸法変化が無い

コピーマスク
特徴
  • 安価
  • 短納期対応が可能
  • 量産に優位

エマルジョンマスク（Em）
特徴
  • 基材の伸縮が少なく寸法変化が少ない
  • クロムマスクと比較して安価

製品情報 クロム直画マスク コピーマスク Emマスク
高精度品 通常品
基板材料 石英（Qz）／ソーダライム（SL） SL
サイズ（mm） 〜400x400 〜700x800 〜508x609.4 〜711x813
最小線幅（μm） 1.0〜 2.0〜 3.0〜 10.0〜
線幅精度（μm） ±0.1〜 ±0.2〜 ±1.0〜 ±3.0〜
ピッチ精度（μm） ±1.0〜 ±1.0〜 ±2.0〜 ±5.0〜

注1　高精度品は全て石英材料での数値となります
注2　パターンの形状によっては別途ご相談となる場合がございます

品質管理体制

半導体や各種電子部品、フラットパネルディスプレイといった最先端技術の製品を作るのにかかすことのできないフォトマスク。
当社では各種測定装置や検査装置を用いた検査体制を取り、お客様に安心してお使い頂けるフォトマスクを供給する為、日々努力しております。

外観検査装置
検査対象
クロムマスク・レチクル
検査エリア(mm)
最大800x800
検査項目
オープン・ショート・カケ・突起・キズ・シミ・ピッチズレ
照明
落射照明・透過照明
欠陥検出方法
DIE to DIE・DRC・シフト比較・ウェハ比較

対応データフォーマット
フォーマット形式 備考
DWG・DXF AutoCAD2007形式に対応　幅付き線・塗り潰し要素・楕円・自由曲線も対応
GERBER RS274X 拡張形式対応
GDS++  
DMNDOS Helix V5R2対応
SSF (START)